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真空氣氛爐在物理氣相沉積中，電弧離子鍍因其金屬電離率高、易反應沉積、沉積速率高而成為沉積復合鍍層的主要技術之一。但涂層結構中存在較大的液滴，難以沉積較為均勻的涂層。磁控濺射沉積速率小于電弧離子鍍，金屬電離率較低，沉積復合鍍層難度較大，但鍍層結構精細致密，可將晶格周期調小，從而獲得納米復合超硬鍍層。隨著中頻脈沖電源的出現，可以在復合涂層中加入C3N4、DCI等高阻涂層。因此，采用非平衡磁控濺射匹配中頻脈沖電源，可獲得反應充分、涂層結構精細、層間間距納米級、絕緣包括SiO2、Al2O3、AlN等的多層復合超硬涂層。
1)加工余量小于0.3mm的加工工件和使用的夾具，入真空爐前應清除油污、污物、印痕等。2)工件裝夾、加料應保證工件間均勻加熱、冷卻和大氣循環，并放置在有效加熱區域。涂有保護漆的部件之間應保持一定的距離。3)無機加工余量的鋼件表面熱處理(化學處理除外)后不得增加碳氮，脫碳層(含合金稀釋)深度不得大于0.075mm，檢驗方法按HB6735執行。有特殊要求的部件，應符合相應技術文件的規定。4)鈦合金、高強鋼等產品因熱處理導致含氫量增加，不得超過相關技術文件的要求。
真空的爐是指用電熱元件在接近真空狀態下加熱的工業爐。真空的爐冷卻系統是真空的爐的重要組成部分。冷卻水回路應保持暢通，否則會因水溫升高而停機。這是真空的爐在工作中經常被忽視的一個問題。真空爐廠家當無人管理時，可能會導致真空的爐的重大損壞。完全消除工件表面在加熱過程中的氧化脫碳，可獲得無變質層的清潔表面。這對于那些只磨一面的刀具(如油皮麻花鉆，磨完后直接將槽面脫碳層露出邊緣)切削性能的提高有很大的影響。
